氏名

サイトウ ミキコ

齋藤 美紀子

職名

上級研究員(研究院教授) (https://researchmap.jp/read0205960/)

所属

(ナノ・ライフ創新研究機構)

連絡先

メールアドレス

メールアドレス
mikiko@waseda.jp

URL等

研究者番号
80386739

本属以外の学内所属

学内研究所等

グリーンデバイス研究所

研究所員 2010年-2013年

グリーンデバイス研究所

研究所員 2014年-2014年

グリーンデバイス研究所

研究所員 2015年-

学歴・学位

学位

博士(工学) 論文 早稲田大学

所属学協会

表面技術学会  

受賞

(社)表面技術協会 平成18年度技術賞受賞

2006年02月

研究分野

キーワード

ナノデバイス造形

科研費分類

総合理工 / ナノ・マイクロ科学 / ナノマイクロシステム

研究シーズ

研究テーマ履歴

極微細加工・造形支援(精密ナノめっき、文科省ナノテクノロジ-総合支援プロジェクト)

個人研究

論文

The Effect of Cu Seed Layers on the Properties of the Electroplated Sn-Cu Films,

M. Saito

査読有り156p.E86 - E902009年-

Preparation of Electrodeposited Pt Nano Patterned Electrode using UV-Nano Imprinting Lithography

M. Saito

ECS Trans.査読有り16(25)p.131 - 1362008年-

Effect of Poly(N-vinyl-pyrrolidone) on Electrochemical Production of Cu Nanoparticles

M. Saito

J. Electrochem. Soc査読有り165(2)p.E50 - E572018年-

Al-Si合金膜のジンケ−ト処理プロセスに対する下地Si基板の影響

齋藤美紀子

表面技術査読有り61p.447 - 4512010年-

Effect of Tl-codeposition on Au Electrodeposition from Non-Cyanide Bath

M. Saito

ECS Trans.査読有り25p.87 - 962009年-

Electrodeposition Conditions of CoNiFe Films Crystal Structure and Evaluation of Magnetic Moments

J. Electrochemical Soc. Proc.PV-2002-27p.241 - 2532002年10月-

ELECTROCHEMICAL ANALYSIS OF ZINCATE TREATMENTS FOR Al AND Al ALLOY FILMS FOR UNDER BUMP METAL FORMATION

Mikiko Saito

査読有り26p.1017 - 10202005年11月-

Development of a Sub-micron Processing Method with Ion Implantation for the Fabrication of Optical Communication Devices

Seungjun Yu, MakotoFujimaki, Keita Kawabe, Hideaki Ohkubo, Masaharu Hattori, Yoshimichi Ohki, Mikiko Saito, Yasuo Wada,

IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials査読有りVol.125-Ap.69 - 712005年01月-

銀デンドライトにおける表面増強ラマン散乱

柳沢雅広

表面科学Vol.26(No.9)p.532 - 5362005年09月-

Evaluation of the Crystal Structure, Film Properties, and Bs of Electroplated CoNiFe Films”

M. Saito

J. Electrochemical Soc.査読有り149p.C642 - C6472002年10月-

The Effect of Preparation Conditions on Magnetic Properties of Electroplated high-Bs CoNiFe Films

M. Saito

J. Electrochemical Soc. Proc.査読有りPV2000-29p.185 - 1962000年10月-

Corrosion Properties for Electroplated CoNiFe Film with High Bs

M.Saito

J. Electrochemical Soc. 査読有り146p.2845 - 28481999年04月-

Corrosion Evaluation of Exchange Biasing Films for MR-Heads

M. Saito

J. Electrochemical Soc. Proc.査読有りPV95-11p.361 - 3691995年06月-

Newly Developed Inductive Write Head with Electroplated CoNiFe Film

K. Ohashi

IEEE Trans on Magnetics 査読有り34,p.1462 - 14641998年07月-

A Soft Magnetic CoNiFe Film with High Saturation Magnetic Flux Density and Low Coercivity

T. Osaka

Nature査読有り387p.796 - 7981998年04月-

MRヘッドギャップ用アルミナ膜の検討

齋藤美紀子

日本応用磁気学会学術講演会査読有り22p.257 - 2601998年-

Preparation for High Corrosion Resistance of High Bs CoNiFe Film with High Bs

日本応用磁気学会学術講演会1998年06月-

Laterally enhanced growth of electrodeposited Au to form ultrathin films on nonconductive surfaces

Kobayashi, Chiaki;Saito, Mikiko;Homma, Takayuki

ELECTROCHIMICA ACTA74p.235 - 2432012年-2012年

DOIWoS

詳細

ISSN:0013-4686

Initial catalyzation analysis of electroless NiP nanoimprinting mold replicated from self-assembled monolayer modified nanopatterns

Lin, Cheng Ping;Saito, Mikiko;Homma, Takayuki

ELECTROCHIMICA ACTA査読有り82p.75 - 812012年-2012年

DOIWoS

詳細

ISSN:0013-4686

Low-Temperature Au-Au Bonding Using Nanoporous Au-Ag Sheets

Mimatsu, Hayata;Mizuno, Jun;Kasahara, Takashi;Saito, Mikiko;Nishikawa, Hiroshi;Shoji, Shuichi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS52(5)2013年-2013年

DOIWoS

詳細

ISSN:0021-4922

Fabrication of Electroless NiP Nanoimprinting Mold by Replication of UV-treated and Self-assembled-monolayer-modified Cyclo-olefin Polymer Nanopatterns

Lin, Cheng Ping;Saito, Mikiko;Homma, Takayuki

ELECTROCHEMISTRY査読有り81(9)p.678 - 6812013年-2013年

DOIWoS

詳細

ISSN:1344-3542

Effect of Hydrogen Absorption on Electrical Transport Properties for Ni36Nb24Zr40 Amorphous Alloy Ribbons

Umetsu, Rie Y.;Yoshida, Hajime;Fukuhara, Mikio;Yamaura, Shin-ichi;Matsuura, Makoto;Sasaki, Toshio;Sekiguchi, Tetsushi;Saito, Mikiko;Mizuno, Jun;Kawarada, Hiroshi

MATERIALS TRANSACTIONS54(8)p.1339 - 13422013年-2013年

DOIWoS

詳細

ISSN:1345-9678

Nanoindentation Analysis for Mechanical Properties of Electroless NiP Imprinting Mold Replicated from Self-Assembled-Monolayer Modified Master Mold

Lin, Cheng Ping;Saito, Mikiko;Homma, Takayuki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS査読有り52(11)2013年-2013年

DOIWoS

詳細

ISSN:0021-4922

Effect of Annealing on Magnetostrictive Properties of Fe-Co Alloy Thin Films

Nakajima, Takashi;Takeuchi, Teruaki;Yuito, Isamu;Kato, Kunio;Saito, Mikiko;Abe, Katsuhiro;Sasaki, Toshio;Sekiguchi, Tetsushi;Yamaura, Shin-ichi

MATERIALS TRANSACTIONS査読有り55(3)p.556 - 5602014年-2014年

DOIWoS

詳細

ISSN:1345-9678

Trap-state passivation of titania nanotubes by electrochemical doping for enhanced photoelectrochemical performance

Tsui, Lok-kun;Saito, Mikiko;Homma, Takayuki;Zangari, Giovanni

JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A査読有り3(1)p.360 - 3672015年-2015年

DOIWoS

詳細

ISSN:2050-7488

Planar-type micro-electromagnetic actuators using patterned thin film permanent magnets and mesh type coils

Zhi, Chao;Shinshi, Tadahiko;Saito, Mikiko;Kato, Kunio

SENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL査読有り220p.365 - 3722014年-2014年

DOIWoS

詳細

ISSN:0924-4247

Fabrication of Pi-structured Bi-Te thermoelectric micro-device by electrodeposition

Uda, Kazuho;Seki, Yuta;Saito, Mikiko;Sonobe, Yoshiaki;Hsieh, Yu-Chin;Takahashi, Hidefumi;Terasaki, Ichiro;Homma, Takayuki

ELECTROCHIMICA ACTA153p.515 - 5222015年-2015年

DOIWoS

詳細

ISSN:0013-4686

Transmission-type plasmonic sensor for surface-enhanced Raman spectroscopy

Yanagisawa, Masahiro;Saito, Mikiko;Kunimoto, Masahiro;Homma, Takayuki

APPLIED PHYSICS EXPRESS査読有り9(12)2016年-2016年

DOIWoS

詳細

ISSN:1882-0778

磁気ディスク界面の測定技術:プラズモンセンサの応用 : サブナノメートルへ挑戦

柳沢 雅広;齋藤 美紀子;本間 敬子

電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録112(294)p.1 - 42012年11月-2012年11月 

CiNii

磁気ディスク界面の測定技術:プラズモンセンサの応用 : サブナノメートルへの挑戦(ハードディスクドライブ,一般)

柳沢 雅広;齋藤 美紀子;本間 敬之

電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録112(294)p.1 - 42012年11月-2012年11月 

CiNii

詳細

ISSN:0913-5685

概要:4Tb/in2以上の記録密度に対応する極薄潤滑膜/DLC保護膜の化学構造を、プラズモンセンサと表面増強ラマン散乱分光法で測定することに成功した。また膜の深さ方向の化学構造変化も0.1mmの分解能で測定した。

S165011 プラズモンセンサによる磁気ディスク表面の分子構造解析([S16501]ヘッド・ディスク・インターフェイス)

柳沢 雅広;齋藤 美紀子;本間 敬之

年次大会 : Mechanical Engineering Congress, Japan2011p."S165011 - 1"-"S165011-5"2011年09月-2011年09月 

CiNii

詳細

概要:Ultra-thin DLC films and lubricant films are requested for high density magnetic recording. It was difficult for Raman spectroscopy to measure their molecular structures because of its low sensitivity. Newly-developed plasmonic sensor successfully acquired Raman spectrum of DLC films or lubricant/DLC interfaces with sub-nanometer thickness. Crystal structure of ultra-thin DLC films were slightly changed compared with that of thick films. Specifically, a graphite-like structure increases with decreasing thickness. It was found that organic and inorganic contaminations exist on a magnetic layer or a magnetic layer/DLC interface. According to the Raman spectrum analysis, a feature of adsorbed lubricant molecules of lubricant on the DLC film was confirmed.

B-1-52 シリコンプロセスを用いた350GHz帯積層薄板接合導波路アンテナの試作(B-1.アンテナ・伝搬B(アンテナ一般),一般セッション)

広川 二郎;戸村 崇;南方 佑介;永妻 忠夫;瀬戸 弘之;井上 良幸;加藤 邦男;齋藤 美紀子

電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集査読有り2014(1)2014年09月-2014年09月 

CiNii

ラマン分光法を用いた動的機械物性と化学構造の同時測定: トライボロジー解析(第1報)

柳沢 雅広;斎藤 美紀子;國本 雅宏;本間 敬之

表面科学学術講演会要旨集査読有り36(0)2016年-2016年

CiNii

詳細

概要:ラマン分光法は、高分解能で化学構造を分析する方法として優れているが、これに高速での動的観察機能を開発して動的機械物性と化学構造の同時観察を試みている。今回は、トライボロジー現象を例に摺動時の摩擦力と化学構造の変化について報告する。

ラマン分光法を用いた動的機械物性と化学構造の同時測定:トライボロジー解析(第2報)

柳沢 雅広;齋藤 美紀子;國本 雅宏;本間 敬之

表面科学学術講演会要旨集37(0)2017年-2017年

CiNii

詳細

概要:ラマン散乱分光法は非破壊で動的な化学構造の変化を測定することができる.また高速での測定も可能なのでさまざまな外部入力と同時に測定することもできる.本報告では,摺動時の摩擦力などの機械物性とラマンスペクトルを高速で同時測定を行った結果を紹介する.

Transmission-type plasmonic sensor for surface-enhanced Raman spectroscopy

Yanagisawa Masahiro;Saito Mikiko;Kunimoto Masahiro;Homma Takayuki

Appl. Phys. Express査読有り9(12)2016年11月-2016年11月 

CiNii

詳細

ISSN:1882-0778

概要:We present a novel optical device for the analysis of chemical surface properties utilizing surface-enhanced Raman scattering. The device, a transmission-type plasmonic sensor (TPS), offers the advantages of high sensitivity, nondestructive sample characterization, simple setup, and low-cost fabrication. The TPS is composed of Ag nanoparticles (NPs) deposited on a convex quartz glass substrate. The enhanced Raman spectrum is acquired by focusing a laser beam perpendicular to the sample surface through the substrate. The laser beam generates plasmon polarization in droplet-shaped Ag NPs at the sensor/sample interface. Our results indicate the potential of the device as a versatile surface-analytical tool.

Fabrication of plate-laminated waveguide for 350GHz band by silicon process

Hirokawa, Jiro; Suetsugu, Satoshi; Minamikata, Yusuke; Nagatsuma, Tadao; Seto, Hiroyuki; Inoue, Yoshiyuki; Saito, Mikiko

2015 1st URSI Atlantic Radio Science Conference, URSI AT-RASC 20152015年10月-2015年10月 

DOIScopus

詳細

概要:© 2015 International Union of Radio Science (URSI).This paper presents the fabrication of plate-laminated waveguides and cavities for 350GHz band by silicon process where the tolerance is less than several μm. We measure the transmission loss of the waveguide and the Q factors of the cavities, and then estimate the equivalent conductivity. We will also fabricate the plate-laminated waveguide slot array antennas (Y.Miura, J.Hirokawa et al., IEEE Trans. Antennas Propagat., 59, 2011, pp.2844-2851) and show the measured results in the conference.

Study of Multilayer X-ray Absorbers to Improve Detection Efficiency of TES X-ray Microcalorimeter Arrays

Hayashi, T.; Nagayoshi, K.; Muramatsu, H.; Yamasaki, N. Y.; Mitsuda, K.; Saito, M.; Homma, T.; Hara, T.; Noda, H.

Journal of Low Temperature Physics査読有り184(1-2)p.257 - 2622016年07月-2016年07月 

DOIScopus

詳細

ISSN:00222291

概要:© 2016, The Author(s).We report the fabrication and evaluation of the Cu/Bi bilayer absorber with electrodeposition. We designed the Cu/Bi absorber to satisfy the requirements for scanning transmission electron microscope (STEM). The residual resistivity ratios of films of Cu and Bi with electrodeposition was 5.91 ± 0.49 and 2.06 ± 0.33 , respectively; these values are sufficient for the requirements of STEM. We found that the Cu/Bi bilayer absorber TES microcalorimeter experienced a pulse-shape variation and we considered that these variations were caused by the quality of the contact surface between the absorber and TES. In addition, we examined the structure of the absorber using focus ion beam analysis and STEM. The results suggest that an oxidation between the Cu and seed layer, in which the layer is an electrode for electrodeposition, yielded variations. Moreover, thermal simulation suggests that the thermal conduction between the absorber and TES caused variations. The results of this study will improve the process of Bi electrodeposition.

Transmission-type plasmonic sensor for surface-enhanced Raman spectroscopy

Yanagisawa, Masahiro; Saito, Mikiko; Kunimoto, Masahiro; Homma, Takayuki

Applied Physics Express9(12)2016年12月-2016年12月 

DOIScopus

詳細

ISSN:18820778

概要:© 2016 The Japan Society of Applied Physics.We present a novel optical device for the analysis of chemical surface properties utilizing surface-enhanced Raman scattering. The device, a transmission-type plasmonic sensor (TPS), offers the advantages of high sensitivity, nondestructive sample characterization, simple setup, and low-cost fabrication. The TPS is composed of Ag nanoparticles (NPs) deposited on a convex quartz glass substrate. The enhanced Raman spectrum is acquired by focusing a laser beam perpendicular to the sample surface through the substrate. The laser beam generates plasmon polarization in droplet-shaped Ag NPs at the sensor/sample interface. Our results indicate the potential of the device as a versatile surface-analytical tool.

Corporate-feed slotted wavguide array antenna at 350 GHz band by silicon process

Tekkouk, Karim; Hirokawa, Jiro; Oogimoto, Kazuki; Nagatsuma, Tadao; Seto, Hiroyuki; Inoue, Yoshiyuki; Saito, Mikiko

2016 IEEE Antennas and Propagation Society International Symposium, APSURSI 2016 - Proceedingsp.1197 - 11982016年10月-2016年10月 

DOIScopus

詳細

概要:© 2016 IEEE.A corporate feed slotted waveguide array antenna with broadband characteristics in term of gain in the 350 GHz band is achieved by measurement for the first time. The etching accuracy for thin laminated plates of the diffusion bonding process with conventional chemical etching is limited to ±20μm. This limits the use of this process for antenna fabrication in the submillimeter wave band where the fabrication tolerances are very severe. To improve the etching accuracy of the thin laminated plates, a new fabrication process has been developed. Each silicon wafer is etched by DRIE (deep reactive ion etcher) and is plated by gold on the surface. This new fabrication process provides better fabrication tolerances about ±5μ™ using wafer bond aligner. The thin laminated wafers are then bonded with the diffusion bonding process under high temperature and high pressure. To validate the proposed antenna concepts, four antenna prototypes have been designed and fabricated in the 350 GHz band. The 3dB-down gain bandwidth is about 35GHz by this silicon process while it was about 15GHz by the conventional process using metal plates in measurement.

Corporate-feed slotted waveguide array antenna in the 350-GHz band by silicon process

Tekkouk, Karim; Hirokawa, Jiro; Oogimoto, Kazuki; Oogimoto, Kazuki; Nagatsuma, Tadao; Seto, Hiroyuki; Inoue, Yoshiyuki; Saito, Mikiko

IEEE Transactions on Antennas and Propagation65(1)p.217 - 2252017年01月-2017年01月 

DOIScopus

詳細

ISSN:0018926X

概要:© 1963-2012 IEEE.A corporate-feed slotted waveguide array antenna with broadband characteristics in terms of gain and reflection in the 350-GHz band is proposed. To improve the etching accuracy of the thin laminated plates with the conventional diffusion bonding process, a new fabrication process has been developed, where the etching accuracy is lower than ± 5μm. In this process, the laminated plates are made with silicon wafers and etched by deep reactive ion etcher process. These are gold plated then bonded with the diffusion bonding process. The estimated effective conductivity of the gold plated wafer is 1.6 × 107 S/m. The loss per unit length is 1.1 dB/cm. A 16 × 16 element array antenna has been designed and fabricated in the 350-GHz band with the proposed process. The broadband characteristic in terms of the antenna gain is demonstrated for the first time by measurement in this frequency band. The 3-dB down gain bandwidth is 50.8 GHz in simulation and is 44.6 GHz in measurement.

Plate-laminated corporate-feed slotted waveguide array antenna at 350-GHz band by silicon process

Tekkouk, Karim; Hirokawa, Jiro; Oogimoto, Kazuki; Nagatsuma, Tadao; Seto, Hiroyuki; Inoue, Yoshiyuki; Saito, Mikiko

ISAP 2016 - International Symposium on Antennas and Propagationp.538 - 5392017年01月-2017年01月 

Scopus

詳細

概要:© 2016 IEICE. A corporate feed slotted waveguide array antenna with broadband characteristics in term of gain in the 350 GHz band is achieved by measurement for the first time. The etching accuracy for thin laminated plates of the diffusion bonding process with conventional chemical etching is limited to ±20μm. This limits the use of this process for antenna fabrication in the submillimeter wave band where the fabrication tolerances are very severe. To improve the etching accuracy of the thin laminated plates, a new fabrication process has been developed. Each silicon wafer is etched by DRIE (deep reactive ion etcher) and is plated by gold on the surface. This new fabrication process provides better fabrication tolerances about ±5 μm using wafer bond aligner. The thin laminated wafers are then bonded with the diffusion bonding process under high temperature and high pressure. To validate the proposed antenna concepts, an antenna prototype has been designed and fabricated in the 350 GHz band. The 3dB-down gain bandwidth is about 44.6 GHz by this silicon process while it was about 15GHz by the conventional process using metal plates in measurement.

Plate-laminated corporate-feed slotted waveguide array antenna at 350-GHz band by silicon process

Tekkouk, Karim; Hirokawa, Jiro; Oogimoto, Kazuki; Nagatsuma, Tadao; Seto, Hiroyuki; Inoue, Yoshiyuki; Saito, Mikiko

ISAP 2016 - International Symposium on Antennas and Propagation査読有りp.538 - 5392017年01月-2017年01月 

Scopus

詳細

概要:© 2016 IEICE. A corporate feed slotted waveguide array antenna with broadband characteristics in term of gain in the 350 GHz band is achieved by measurement for the first time. The etching accuracy for thin laminated plates of the diffusion bonding process with conventional chemical etching is limited to ±20μm. This limits the use of this process for antenna fabrication in the submillimeter wave band where the fabrication tolerances are very severe. To improve the etching accuracy of the thin laminated plates, a new fabrication process has been developed. Each silicon wafer is etched by DRIE (deep reactive ion etcher) and is plated by gold on the surface. This new fabrication process provides better fabrication tolerances about ±5 μm using wafer bond aligner. The thin laminated wafers are then bonded with the diffusion bonding process under high temperature and high pressure. To validate the proposed antenna concepts, an antenna prototype has been designed and fabricated in the 350 GHz band. The 3dB-down gain bandwidth is about 44.6 GHz by this silicon process while it was about 15GHz by the conventional process using metal plates in measurement.

Investigation on the Hardness and Morphology of Be-Cu for Probing Al Layers

M. Saito

ECS Trrans.査読有り33p.65 - 722011年02月-

Effect of Au nanoporous structre on bondinfg strength

K. Matsunaga,

ICEP-IAAC 2015 - 2015 International Conference on Electronic Packaging and iMAPS All Asia ConferenceArticle number 7111127p.830 - 8332015年05月-

Properties of Nanoporous Structures Obtained by Electrodeposition and Dealloying for Low-Temperature Bonding

M. Saito

5th Electronics System-Integration Technology Conference, ESTC 2014 Category numberCFP14TEM-ARTp.Article number 69628192014年09月-

熱硬化フォトレジスト膜の電気、機械特性評価

齋藤美紀子

日本応用磁気学会誌査読有り19p.141 - 1441995年01月-

Fabrication of ZnO-Based Thermoelectric Micro-Devices by Electrodeposition

Hinako Matsuo,

J. Electrochem. Soc.査読有り165p.D417 - D4222018年04月-

Electrodeposition of Gold Electrode on Silicon Wafers

査読有り

Control for Au-Ag Nanoporous Structure by Electrodeposition and Dealloying

査読有り2018年09月-

書籍等出版物

金属 -めっき法を用いた膜作製と微細加工-

齋藤美紀子

アグネ技術センター2017年 12月-

講演・口頭発表等

Al合金膜のジンケ−ト処理プロセスにおける表面電位と膜成長との関係

齋藤美紀子 前川武之 本間敬之

第114回表面技術講演大会2006年10月13日

SnCu合金めっき膜における膜内部応力と結晶構造

佐々木弘幸 加藤邦男 齋藤美紀子 和田恭雄 本間敬之

第112回表面技術講演大会2005年10月05日

ナノレベルのめっき法を用いた磁気ヘッドの作製

齋藤美紀子

Nano Fandries Group Workshop 20052005年

ナノスケール電極による短チャンネル有機トランジスタの検討

高橋宏昌,江面知彦,筒井 謙,齋藤美紀子,水野 潤,徳田正秀,小野里陽正,南風盛将光,鯉沼秀臣,和田恭雄,長妻一之,加藤邦男,小泉寿子

第65回応用物理学会

STUDY ON NANO-SIZE ELECTROPLATED Au FILM FOR SINGLE MOLECULE ELECTRONICS

Mikiko Saito, Toshiko Koizumi, Ken Tsutsui, Jun Mizuno, Tomohiko EHarumasa Onozato, Yasuo Wada, Takayuki Homma, Masamitsu Haemori

205th Meeting of the Electrochemical Soc.2004年05月

Fabrication of SERS-Active Substrate Using Electrodeposited Silver Thin Film with Nanoscale Dendrites

Mikiko Saito, Masahiro Yanagisawa, Masahide Tokuda, Yasuo Wada, Takayuki Homma

2004年10月

Wetting Behavior of Water and Oil for Plated Films with Fine Structure

M. Saito, and T. Homma

The 3rd International Symposium on Advanced Materials Development and Integration of Novel Structural Metallic and Inorganic Materials2012年

Effect of the Properties of Electroplated Sn-Cu Films on the Formation of Sn whiskers

M. Saito, and T. Homma

he 3rd International Symposium on Advanced Materials Development and Integration of Novel Structural Metallic and Inorganic Materials2012年

Preparation of Metal Nano-particles using Electrochemical Deposition

M. Saito, J. Mizuno, and T. Homma

2010年

Effect of Tl-codeposition on Au Electrodeposition from Non-Cyanide Bath

M. Saito, K. Inoue, K. Shiokawa, and T. Homma

216th Meeting of the Electrochemical Soc.2009年10月

Preparation of Electroplated Pt Nano Patterend Electrode using Nano Imprinting Lithography

M. Saito, J. Mizuno, H. Nishikubo, H. Fujiwara, and T. Homma

2008年10月15日

Investigation on the Hardness and Morphology of Be-Cu for Probing Al Layers

M. Saito, G. Kimoto, and T. Homma

218th Meeting of the Electrochemical Soc.2010年10月13日

Effect of Supporting Electrolyte on Electrochemical Production of Cu Nanoparticles

Mikiko Saito, Tomohiro Ishii, Hidemichi Fujiwara, and Takayuki Homma

22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry2018年04月16日

Control for Au-Ag Nanoporous Structure by Electrodeposition and Dealloying

Mikiko Saito, Jun Mizuno, Shunichi Koga, Hiroshi Nishikawa

7th Electronics System-Integration Conference2018年09月19日

Electrodeposition of Gold Electrode on Silicon Wafers for Submillimeter-wave Devices

Mikiko Saito, Hiroyuki SETO, Yoshiyuki INOUE and Jiro HIROKAWA

7th Electronics System-Integration Conference2018年09月18日

Electrochemical Synthesis of Metal Nano Particles Using Electrodeposited Pt Electrode with Nano Patterned Surface

H. Nishikubo, H. Fujiwara, M. Saito, J. Mizuno, and T. Homma

214th Meeting of the Electrochemical Soc.2008年10月15日

Effect of Seed layers on the Internal Stress of Electroplated Sn-Cu Films

H. Sasaki, K. Katou, T. Toba, M. Saito, Y. Wada, and T. Homma

209th Meeting of the Electrochemical Soc.2006年05月09日

Study of Internal Stress and Crystal size of Electroplated Sn-Cu alloy Films

H. Sasaki, K. Katou, M. Saito, Y. Wada, and T. Homma

207th Meeting of the Electrochemical Soc.2005年05月18日

Preparation of Nano-structured CoCu Films by Electrodeposition

M. Saito, H. Fujiwara, J. Mizuno, and T. Homma

207th Meeting of the Electrochemical Soc.2005年05月16日

Fabrication of SERS-Active Substrate Using Electrodeposited Silver Thin Film with Nanoscale Dendrites

M. Saito, M. Yanagisawa, M. Tokuda, Y. Wada, and T. Homma

206th Meeting of the Electrochemical Soc.2004年10月

Electrochemical Analysis of Zincate Treatments for Al and Al Alloy Films for Under Bump Metal Formation

M. Saito, T. Maegawa, and T. Homma

5th International Symposium on Electrochemical Micro and Nanosystem Technologies2004年

Electrodeposition Conditions of CoNiFe Films Crystal Structure and Evaluation of Magnetic Moments

M. Saito and K. Ohashi

202th Meeting of the Electrochemical Soc.2002年10月20日

The Effect of Preparation Conditions on Magnetic Properties of Electroplated high-Bs CoNiFe Films

M. Saito, N. Ishiwata, and K. Ohashi

198th Meeting of the Electrochemical Soc.2000年10月22日

Corrosion Evaluation of Exchange Biasing Films for MR-Heads”, 187th Meeting of the Electrochemical Soc.

M. Saito, K. Yamada, and K. Matsumura

187th Meeting of the Electrochemical Soc.1995年

電解還元による金属ナノ粒子の合成

石井智紘, 齋藤美紀子, 藤原英道, 本間敬之

表面技術協会第126回講演大会2012年09月27日

金属電解還元金属ナノ粒子合成における有機添加剤の挙動解析

齋藤美紀子, 石井智紘, 藤原英道, 本間敬之

表面技術協会第126回講演大会2012年09月27日

金属ナノ粒子電解生成における微細構造制御

齋藤美紀子, 石井智紘, 藤原英道, 本間敬之

2012年電気化学会第79回大会2012年

表面構造及び添加剤によるめっき膜濡れ性制御

表面技術協会第124回講演大会2011年09月22日

ナノインプリント法を用いたプラズモンアンテナ型分子センサの作製

齋藤美紀子, 竹内輝明, 柳沢雅広, 伊藤亮冶, 高須良三, 片岡祐治, 本間 敬之

表面技術協会第122回講演大会2010年

電解法による金属ナノ粒子の作製と形態および構造解析

齋藤美紀子, 石井智紘, 西久保英郎, 藤原英道, 本間敬之

2010年電気化学秋季大会2010年

UV-ナノインプリント(UV-NIL)を用いためっきPtナノ電極の形成

齋藤美紀子, 水野潤, 西久保英郎, 藤原英道, 本間敬之

表面技術協会第117回講演大会2008年03月13日

めっきPtナノ電極による金属ナノ粒子の生成

西久保英郎, 藤原英道, 齋藤美紀子, 水野潤, 本間敬之

表面技術協会第117回講演大会2008年03月13日

ジンケート処理におけるZn置換析出状態に対するAl合金膜とSi基板の接触電位差の影響

齋藤美紀子, 前川武之, 本間敬之

表面技術協会第116回講演大会

Al合金膜のジンケート処理プロセスにおける表面電位と膜成長との関係

齋藤美紀子, 前川武之, 本間敬之

表面技術協会第114回講演大会2006年10月13日

2P/エポキシ基板を型とするゾルゲル転写プロセス

齋藤美紀子

応用物理学会学術講演会1990年03月

Ni被覆ガラススタンパを用いた2P成形基板の諸特性

齋藤美紀子

光メモリシンポジウム1992年03月

層間絶縁用熱硬化フォトレジスト膜のリーク電流評価

齋藤美紀子

応用物理学会学術講演会1998年06月

高磁気モーメント電析CoNiFe

齋藤 美紀子

表面技術協会、表面物性研究会2001年10月

FPD駆動用64回路高耐圧NMOSIC

齋藤 美紀子、若海弘夫、相沢 孝、 佐久間 啓

昭和60年度電子通信学会半導体・材料部門全国大会1985年11月23日

CoNiFeめっき膜の高飽和磁化の要因検討

表面技術協会第103回講演大会2001年03月14日

Preparation for High Corrosion Resistance of High Bs CoNiFe Film with High Bs

齋藤 美紀子

第22回日本応用磁気学会学術講演会1998年

詳細

国内会議

電気銅めっき膜の内部応力に及ぼすめっき条件の影響

佐々木弘幸 齋藤美紀子, 和田恭雄,

第110回表面技術講演大会2004年09月14日

ナノレベルの平滑めっき膜の検討

齋藤美紀子、南風盛将光、小泉寿子、筒井謙、水野潤、江面知彦、徳田正秀、小野里陽正、鯉沼秀臣、和田恭雄

電気学会、平成15年電子情報システム部門大会2003年

電析と選択溶解を用いたAu-Agナノポーラス構造制御

齋藤美紀子,古賀俊一,水野 潤,西川 宏

2017年電気化学秋季大会2017年09月26日

Effect of Organic Additives on Electrochemical Reduction Assessment using SERS Analysis

M. Saito1, T. Ishii2, H. Fujiwara2, M. Yanagisawa1, and T. Homma

224th Meeting of the Electrochemical Soc.2013年10月27日

Formation of Nanoporous Electrode on Aligned CNT Films using Dealloying

Mikiko Saito, Jun Mizuno1 Michiko Kusunoki, and Hiroshi Nishikawa

230th Meeting of the Electrochemical Soc., PRiME20162016年10月05日

Nanoporous Structure Control by Electrodeposition and Dealloying Conditions and Evaluation of Bond Strength

Mikiko Saito1, Kaori Matsunaga2, Jun Mizuno1, Hiroshi Nishikawa

7th Electronics System-Integration Conference2014年09月16日

Preparation of Transparent Plasmon Sensors by the Sol-Gel Process and Electrodeposition

M. Saito, M. Mita, M. Yanagisawa, and T. Homma

228th Meeting of the Electrochemical Soc.2015年10月12日

Investigation of Preparation for Mn-Bi using Electrodeposition and Their Properties

M. Saito and R. Y. Umetsu

The 3rd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development2018年09月25日

Evaluation of Dealloying Property for Electrodeposited Au-Ag film

M. Saito, J. Mizuno, S. Koga, H. Nishikawa

The 3rd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development2018年09月25日

金属電解還元金属ナノ粒子合成における有機添加剤の挙動解析

齋藤美紀子, 石井智紘, 藤原英道, 本間敬之

表面技術協会第126回講演大会2012年09月27日

電解還元による金属ナノ粒子の合成

石井智紘, 齋藤美紀子, 藤原英道, 本間敬之

表面技術協会第126回講演大会2012年09月27日

ゾルゲル法と電気化学析出法による透過型プラズモンセンサの作製

齋藤美紀子,三田正弘,柳沢雅広,本間敬之

表面技術協会第131回講演大会2015年03月04日

めっきプロセスにおけるナノレベルの膜構造精密制御

本間敬之, 齋藤美紀子

Mate20132013年01月30日

高アスペクト比ビアにおけるCuめっきの初期成長に関する微量Sn添加の影響評価

赤澤 美雪, 藤本 興治, 倉持 悟, 鈴木 浩助, 齋藤 美紀子

第 27回エレクトロニクス実装学会2013年03月16日

p 型Bi-Te 系薄膜の電析および熱電変換素子の作製

宇田和布,関佑太, 齋藤美紀子,園部義明,謝育秦,高橋英史,寺崎一郎,本間敬之

2013年応用物理学会春季講演会2013年03月

金属ナノ粒子の電解生成反応過程および添加剤PVPの挙動の検討

齋藤美紀子,石井智紘,藤原英道,本間敬之

表面技術協会第116回講演大会2016年03月22日

Electrodeposition on High-density and Well-aligned Carbon Nanotubes Formed by Surface Decomposition of SiC

M. Saito, M. Kusunoki, T. Homma, H. Kawarada

The 5th InM. Saito1, M. Kusunoki2, T. Homma1, H. Kawaradaternational Symposium on Advanced Materials Development and Integration of Novel Structured Metallic and Inorganic Materialsl2014年11月19日

Nano-porous Structure Control under Electrodeposition and Dealloying Conditions

M. Saito, K. Matsunaga, J. Mizuno, H. Nishikawa

The 5th International Symposium on Advanced Materials Development and Integration of Novel Structured Metallic and Inorganic Materials2014年11月19日

Relationship between bonding conditions and shear strength on joints using Au nanoporous sheet

K. Matsunaga, Min-Su Kim, H. Nishikawa, M. Saito, J. Mizuno

5th Electronics System-Integration Technology Conference2014年09月16日

Effect of Cu Addition and Annealing on Electrodeposited Bi-Te Films for Micro Thermoelectric Devices

M. Sugie, D. Furuyama1, M. Saito, Y. Sonobe, H. Takahashi, I. Terasaki, T. Homma

232nd Meeting of the Electrochemical Soc.2017年10月

酢酸浴によるZnOの電析条件の検討と熱電変換素子への応用

吉徳光一朗,松尾日向子,斎藤美紀子,本間敬之

表面技術協会第136回講演大会2017年09月14日

特許

整理番号:480

ナノ構造体の製造方法(日本)

本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2005- 69804、特開2006-249535、特許第4762577号

整理番号:517

めっき液、めっき膜およびその作製方法(日本)

齋藤 美紀子

特願2005-143413、特開2006-322014、特許第4712439号

整理番号:611

電極、金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法(日本)

齋藤 美紀子, 水野 潤, 本間 敬之

特願2006-160466、特開2007-327117、特許第5064724号

整理番号:1038

金型製造方法およびその方法により形成された金型(日本, PCT, アメリカ, 中華人民共和国)

本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2010-064194、特開2011-194720、特許第5665169号

整理番号:1040

金型製造装置(日本)

本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2010- 64204、特開2011-194721

整理番号:1070

金属微粒子の製造方法(日本)

本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2010-149456、特開2012- 12653、特許第5566794号

整理番号:1258

金属微粒子の製造方法、及び製造装置(日本)

本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2011-278015、特開2013-129859、特許第6004643号

整理番号:1419

インターポーザー基板の製造方法。(日本)

齋藤 美紀子

特願2013- 51594、特開2014-177670、特許第6216522号

整理番号:1458

めっき装置及びこれを用いたセンサ装置(日本, スイス, フランス, シンガポ-ル, ヨ-ロッパ, 大韓民国, ドイツ, イギリス, アメリカ, イタリア, PCT, 中華人民共和国)

本間 敬之, 柳沢 雅広, 齋藤 美紀子, 山本 智之

特願2013-169504、特開2015- 38232、特許第6226229号

整理番号:1470

光学デバイスおよび分析装置(日本)

本間 敬之, 柳沢 雅広, 齋藤 美紀子

特願2013-246727、特開2015-105838

整理番号:1471

光学デバイスおよび分析装置(日本)

柳沢 雅広, 本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2013-246726、特開2015-105837

整理番号:1486

銅材の接合方法(日本)

水野 潤, 齋藤 美紀子

特願2013-248205、特開2015-104748、特許第6347385号

整理番号:1854

光学デバイス及びその製造方法(日本)

本間 敬之, 柳沢 雅広, 齋藤 美紀子

特願2016-208580、特開2018- 72018

整理番号:1915

成膜基板、基板、およびそれらの製造方法(日本)

本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2017-130671、特開2019- 14922

整理番号:1971

ラマン分光測定装置及びラマン分光測定方法(日本)

柳沢 雅広, 本間 敬之, 齋藤 美紀子

特願2017-170631、特開2019- 45396

整理番号:166-JP

光学的センサー(日本)

逢坂 哲彌, 中西 卓也, 島本 直伸, 柳沢 雅広, 齋藤 美紀子

特願2010-505561、特許第5083781号

整理番号:200-JP

電界効果型トランジスタおよび集積回路(日本)

水野 潤, 川原田 洋, 関口 哲志, 齋藤 美紀子

特願2011-532953、特許第5648812号

整理番号:292-JP

光学デバイスおよび分析装置(日本)

本間 敬之, 柳沢 雅広, 齋藤 美紀子

特願2014-553069、特許第6179905号

外部研究資金

科学研究費採択状況

研究種別:基盤研究(C)

ナノインプリントとナノメッキを融合した微小デバイス一体型積層基板に関する研究

2006年-2008年

研究分野:電子デバイス・電子機器

配分額:¥4100000

研究種別:基盤研究(B)

3次元ナノポーラス構造を利用した低温焼結型微細接合技術の確立

2013年-2015年

研究分野:複合材料・表界面工学

配分額:¥19370000

研究種別:挑戦的萌芽研究

プラズモンアンテナ型センサを用いた超高分解能固液界面その場解析手法の確立

2011年-2013年

研究分野:材料加工・処理

配分額:¥4030000

研究種別:

トライボロジーにおける動的埋もれた界面のオペランド観察および解析に関する研究

2018年-0月-2023年-0月

配分額:¥17290000

研究種別:

ミリ波~テラヘルツ帯積層薄板拡散接合導波管型高機能平面アンテナに関する研究

2017年-0月-2020年-0月

配分額:¥45240000

研究種別:

ナノポーラス構造を用いた焼結型高耐熱接合技術の深堀

2016年-0月-2019年-0月

配分額:¥17940000

研究種別:

超高記録密度磁気ディスク用極薄保護膜/潤滑膜の表面・界面化学構造に関する研究

2014年-0月-2019年-0月

配分額:¥14170000

研究種別:

界面反応のその場電気化学イメージングプレートの開発と金属材料余寿命予測への応用

2013年-0月-2016年-0月

配分額:¥18720000

研究種別:

大規模エネルギー変換貯蔵デバイスの電気化学プロセシングにおける核発生成長制御

2013年-0月-2016年-0月

配分額:¥45890000

研究種別:

材料表面のナノ構造を利用した低温固相接合技術の探求と接合メカニズムの解明

2019年-0月-2022年-0月

配分額:¥17420000